中国公司普林诺交付首台国产纳米压印光刻机

中国设备制造商普林诺（Prinano）已向https://www.icsmart.cn/94937/向一家专注于特种工艺的国内客户交付了其首台自主研发的 PL-SR 步进重复式纳米压印光刻系统。该系统将在客户方测试后投入实际芯片生产，这也使普林诺成为继佳能之后第二家向客户提供纳米压印工具的公司。

根据提供的资料，PL-SR 支持低于 10 纳米的线宽。佳能的 FPA-1200NZ2C 可以达到约 14 纳米的线宽。它被宣传为可以生产五纳米级芯片，但文件提醒说，Prinano 的结果并不意味着 PL-SR 可以在五纳米节点上生产先进的逻辑器件。

在这里，纳米压印的吸引力是直截了当的：它避免了商业超紫外光刻中使用的极紫外光源，从而降低了能耗和设备成本。代价是产量和灵活性。纳米压印的速度仍然比传统的光学光刻慢，不适合具有复杂、先进图案的复杂逻辑工艺。

Prinano 的设备通过将刻有纳米级电路的硬质石英模具压入喷墨沉积的薄抗蚀层，对晶片进行图案化。系统的喷墨模块可动态测量墨滴量，以保持残留层较薄（10 纳米以下，变化小于 2 纳米），然后固化图案，以便进行后续蚀刻。该工具可处理 300 毫米晶圆，按照微小公差对齐模具和晶圆，并按顺序压印每个区域，以缝合方式覆盖整个晶圆。它还支持从 20 毫米 x 20 毫米到 300 毫米 x 300 毫米的统一模板连接。

专有的模板轮廓控制机制旨在补偿模具与晶片之间的曲率不匹配，从而实现长宽比超过 7 比 1 的特征转移，同时限制变形，这也是产量和器件变异性的一个重要实际问题。压印后，抗蚀剂可用作蚀刻最终结构的掩膜。

初步验证的目标是具有规则、重复图案的应用：NAND 闪存、硅基微型显示器、硅光子学和高级封装。这些领域将受益于该技术的精细间距和逐场拼接技术，而不需要 CPU 和 GPU 典型的图案多样性。该材料还将国产纳米压印技术视为中国存储器制造商减少对国外工具依赖的一种途径，并能更有效地与老牌供应商竞争。